±¹³» ÃÖ´ë, ¼¼°è 2À§ ±Ô¸ðÀÇ ³ª³ëÀ¶ÇÕ ºñÁî´Ï½º Àü¹® Àü½Ãȸ ¡®³ª³ëÄÚ¸®¾Æ 2017¡¯ÀÌ 7¿ù 12ÀϺÎÅÍ 14ÀϱîÁö 3ÀÏ°£ °í¾ç½Ã ÀÏ»ê ŲÅؽº¿¡¼ °³ÃֵȴÙ.
³ª³ëÄÚ¸®¾Æ´Â ÃֽŠ³ª³ë±â¼ú ¿¬±¸ ¼º°ú ±³·ù ¹× »ê¾÷È ÃËÁøÀ» À§ÇÑ ³ª³ë±â¼ú ºñÁî´Ï½º ÀåÀ» ¸¶·ÃÇϱâ À§ÇØ 2003³âºÎÅÍ »ê¾÷Åë»óÀÚ¿øºÎ¿Í ¹Ì·¡Ã¢Á¶°úÇкΰ¡ °øµ¿À¸·Î ÁÖÃÖÇÏ°í ÀÖ´Ù.
¿ÃÇØ 15ÁÖ³âÀ» ¸ÂÀÌÇÏ´Â ³ª³ëÄÚ¸®¾Æ´Â ³ª³ë ¼ÒÀç, ¼ÒÀÚ¡¤½Ã½ºÅÛ, °¡°ø¡¤Á¦Á¶ °øÁ¤, ÃøÁ¤¡¤ºÐ¼®, ÀÀ¿ë Á¦Ç° µî°ú °ü·ÃÇÑ ±â¾÷(°ü) 20°³±¹ 350°³»ç 550ºÎ½º°¡ Âü°¡ÇÏ¿© ¹ÝµµÃ¼, µð½ºÇ÷¹ÀÌ, ÀÚµ¿Â÷, Àü±â¡¤ÀüÀÚ µî¿¡ Á¢¸ñ °¡´ÉÇÑ ÃֽŠ³ª³ë±â¼ú ¹× Á¦Ç°À» ¿ª´ë ÃÖ´ë ±Ô¸ð·Î Áغñ ÁßÀ̸ç ÀϺ», ij³ª´Ù, Áß±¹, Àεµ µî 10¿©°³ ÇØ¿Ü ¿ì¼ö ³ª³ë±â¾÷ÀÌ ±¹°¡°üÀ¸·Î Âü¿©ÇÏ¿© ³ª³ë±â¼úÀÌ Àû¿ëµÈ ´Ù¾çÇÑ Á¦Ç°À» ¼±º¸ÀÏ ¿¹Á¤ÀÌ´Ù.
³ª³ë ¼ÒÀç ºÐ¾ß¿¡¼´Â ź¼Ò¸¦ ±â¹ÝÀ¸·Î ÇÑ CNT ¹× ±×·¡ÇÉ ÀÀ¿ë Á¦Ç°À» Áß½ÉÀ¸·Î ±â´É¼º ÄÚÆþװú ÆäÀ̽ºÆ®µµ ´Ù¼ö ÃâÇ°µÈ´Ù. ¶ÇÇÑ ¿¬·áÀüÁö¿ë ³ª³ëºÐ¸», ³ª³ë±â¼ú Àû¿ë ¸é»ó¹ß¿Ã¼ ±â¼ú, ³ª³ë Á¶¿µÁ¦ µîÀÇ ³ª³ë ¼ÒÀç/¼ÒÀÚ¿Í Ä«º»ÀÚÀü°Å, ³ª³ëÇÊÅÍ, Ç×±Õ¸¶½ºÅ©, ³ª³ë±â¼ú ¿¡³ÊÁö Àý°¨ ±â±â µî ´Ù¼öÀÇ ³ª³ë ÀÀ¿ë Á¦Ç°µµ Àü½ÃÀå¿¡¼ ¸¸³ªº¼ ¼ö ÀÖ´Ù.
³ª³ëÀåºñ·Î´Â Sputter, Exaporator, Plasma etch, PECVD, ALD µî ¹ÝµµÃ¼ °øÁ¤Àåºñ, ÀϹݽ÷áÀÇ Ç¥¸é °üÂû¿ë ¿Ü°ü °Ë»ç Àåºñ, ÀüÀÚ ¹× ¹ÝµµÃ¼¿ë ·¹ÀÌÀú Àåºñ µî ³ª³ë ÃøÁ¤¡¤ºÐ¼® ¹× °¡°ø¡¤Á¦Á¶ Àåºñ°¡ ´Ù¼ö Àü½ÃµÉ ¿¹Á¤ÀÌ´Ù.
¶ÇÇÑ ¼ÒÇüÈ¡¤Áö´Éȸ¦ À§ÇÑ MICRO/MEMS ±â¼ú, Á¦Ç°ÀÇ °íºÎ°¡°¡Ä¡ÈÀÇ ÇÙ½É ±â¼úÀÎ ·¹ÀÌÀú ±â¼ú, IT¡¤BT¡¤ET µîÀÇ ÇÙ½É ±â´ÉÀ» ¹ßÈÖÇÏ´Â ¹Ì·¡ ¼ÒÀçÀΠ÷´Ü¼¼¶ó¹Í, ±âÁ¸ ¼¾¼¿Í ´Þ¸® Áö´ÉÈµÈ ½º¸¶Æ®¼¾¼, °æ·®È¡¤°í°µµ¡¤³»¿¼º µî °í±â´É Ư¼ºÀ» °¡Áø °í±â´É ¼ÒÀç µîÀ» ÇÑÀÚ¸®¿¡¼ ¸¸³ªº¼ ¼ö ÀÖ´Ù.
³ª³ëÄÚ¸®¾Æ´Â Àü½Ãȸ»Ó ¾Æ´Ï¶ó ÃֽŠƮ·»µå ¹× ¿¬±¸ ¼º°ú¸¦ È®ÀÎÇÒ ¼ö ÀÖ´Â ½ÉÆ÷Áö¾öµµ ¸Å³â µ¿½Ã¿¡ °³ÃÖÇÏ°í ÀÖ´Ù.
Çà»ç 1ÀÏÂ÷ÀÇ ±âÁ¶°¿¬Àº SK ÇÏÀ̴нºÀÇ ¹Ú¼º¿í ´ëÇ¥ÀÌ»ç¿Í RIKEN, Univ. of MichiganÀÇ Franco Nori ±³¼ö°¡ ÃֽŠ³ª³ë±â¼ú¡¤»ê¾÷ Æ®·»µå ¹× ¹Ì·¡ Á¶¸Á¿¡ ´ëÇØ ¹ßÇ¥ÇÒ ¿¹Á¤ÀÌ´Ù.
Çà»ç 2ÀÏÂ÷ÀÇ »ê¾÷È ¼¼¼ÇÀº ±¹³»¿Ü 6¸íÀÇ ¿¬»ç°¡ ¡®Nanotech in Automotive Industry¡¯¶ó´Â ÁÖÁ¦·Î ÀÚµ¿Â÷»ê¾÷ÀÇ ³ª³ë±â¼ú »ó¿ëÈ ÇöȲ ¹× Àü¸Á¿¡ ´ëÇØ ¹ßÇ¥ÇÒ ¿¹Á¤ÀÌ´Ù.
ÀÌ ¿Ü¿¡µµ Á¦Ç° °Å·¡ »ó´ãȸ, »ê¡¤ÇС¤¿¬ Çù·Â »ó´ãȸ, ÃâÇ°±â°ü ±â¼ú/Á¦Ç° ¼³¸íȸ µîÀ» °³ÃÖÇÏ¿© ½ÇÁúÀû ºñÁî´Ï½º ±âȸ¿Í ´Ù¾çÇÑ º¼°Å¸®¸¦ Á¦°øÇÏ¸ç ¸¶ÀÌÅ©·Î³ª³ë½Ã½ºÅÛ/°í±â´É¼ÒÀç/½º¸¶Æ®¼¾¼ ºÐ¾ßÀÇ ±â¼ú µ¿Çâ ¹× ¹Ì·¡ Àü¸Á¿¡ ´ëÇÑ ¿öÅ©¼óÀÌ ÁøÇàµÉ ¿¹Á¤ÀÌ´Ù. ³ª³ë ºÐ¾ß¿¡¼´Â Plenary Session, Technical Session, Satellite Session µî ÃֽŠ¿¬±¸ ¼º°ú ¹× ÃֽŠ±â¼ú ÇöȲÀ» È®ÀÎÇÒ ¼ö ÀÖ´Â ÇÁ·Î±×·¥ÀÌ 3ÀÏ°£ ÁøÇàµÈ´Ù.
ÇÑÆí ³ª³ëÄÚ¸®¾Æ Á¶Á÷À§¿øȸ´Â 15ÁÖ³âÀ» ±â³äÇÏ¿© ±¹°¡ ³ª³ë±â¼ú»ê¾÷ÀÇ ¡®°ú°Å-ÇöÀç-¹Ì·¡¡¯ ¸¦ ÇÑ ´«¿¡ º¼ ¼ö Àִ Ưº° Àü½Ã°üÀ» Á¶¼ºÇÑ´Ù.
ÀÌÈñ±¹ Á¶Á÷À§¿øÀåÀº ¡°³ª³ëÀ¶ÇÕ»ê¾÷ÀÌ ¹ßÀüÇϱâ À§Çؼ´Â ½ÅÁ¦Ç° °³¹ß, R&D, ¸¶ÄÉÆà µîÀÌ À¯±âÀûÀ¸·Î ¿¬°áµÇ¾î¾ß Çϴµ¥ ³ª³ëÄÚ¸®¾Æ°¡ À̸¦ À§ÇÑ ÁÁÀº ºñÁî´Ï½ºÀÇ ÀåÀÌ µÇ°í ÀÖ´Ù¡±¸ç ¡°´ëÇѹα¹ ³ª³ë»ê¾÷ÀÌ Å©°Ô ¹ßÀüÇÏ±æ ±â´ëÇÑ´Ù¡±°í ¹àÇû´Ù.
|